【FY2017_KY001】電子線描画装置入門コース《短期型》

平成29年度 ナノテクキャリアアップアライアンス

京都大学 電子線描画装置入門コース《短期型》

 

■目的、対象者:

 

近年、微細加工技術で大いに注目を集めているのがMEMS・NEMS技術であり、既に様々な分野で研究・開発・実用化が進んでいます。特に、センサ・情報通信・医療・バイオなどの分野で著しい発展をとげています。この技術の中で、微細構造作製におけるキープロセスのひとつが、電子線描画です。

本コースにおいては、微細加工の初心者を対象にし、最新鋭電子線描画装置を使用したSiウェハへの描画をメインに、Siドライエッチング装置による微細加工やFE-SEMによる加工後の微細構造観察も含め、微細加工のための基本技術習得を目指します。

 

■募集人数: 3

■期間: 平成29年7月24日(月)~ 8月2日(水) 

     講義: 2日間(全員)、実習: 2日間(個別) 合計4日間

■会場: 京都大学ナノテクノロジーハブ拠点

(京都市左京区吉田本町 京都大学吉田キャンパス内 工学部物理系校舎3階   327号)

     http://www.mnhub.cpier.kyoto-u.ac.jp/access.html

 

■内容:

1日目,2日目  7月24日(月)~ 7月25日(火)

①  電子線描画の基礎(講義) 参加者全員が対象

 

*以下の日程は受講者毎に連続した2日間で実施します。参加者により日程が異なりますのでご注意下さい。

具体的な受講日程は、受講決定後、調整します。

 

3日目  7月26日(水)~ 8月1日(火) の何れかの日

②  CADによるパターン設計(実習)

③  基板準備と電子線描画装置による描画(実習)

 

4日目  7月27日(木)~ 8月2日(水) の何れかの日

④  描画パターンの現像(実習)

⑤  Siドライエッチング加工(実習)

⑥  加工構造のFE-SEM観察(実習)

 

■受講料: 

アライアンス内の博士課程(後期)学生、若手研究者:無料(旅費の補助を予定)

一般:250,000円

■連絡先:京都大学ナノテクノロジーハブ拠点

(kyodai-hub@saci.kyoto-u.ac.jp、電話:075-753-5231 )

 

FY 2017 Nanotech Career-up Alliance

Kyoto University, Introduction to Electron-beam Lithography << Short-term type >>

 

■ Purpose and intended persons:

In the most-advanced semiconductor devices and MEMS, the requirement for nanoscale patterns have become important. The key technology to meet those requirement is the electron-beam lithography which can draw the fine patterns in the nanometer order.

This course is intended for the beginners of Electron-beam Lithography. The participants will learn the basic knowledge about the nanoscale patterning through the designing a nanoscale pattern by CAD, exposing the pattern on silicon wafers with oxide film by the most-advanced electron-beam lithography equipment, dry etching the pattern, and the observing the fabricated pattern with SEM.

 

■ Number of participants: 3 persons (maximum)

■ Time and period: From July 24 (Mon) to August 2 (Wed), 2017

4 days in total (lecture: 2 days [all participants]; practice: 2 days [individually])

■ Venue: Kyoto University Nanotechnology Hub (* Yoshida Campus, Kyoto University)

     http://www.mnhub.cpier.kyoto-u.ac.jp/access.html

 

■ Contents:

Day 1 and Day 2 – July 24 (Mon) and July 25 (Tue)

[1] Fundamentals of electron-beam lithography (lecture)         For all the participants

*) The following schedule will be implemented for each participant for two consecutive days. Please note that the schedule is different for each participant. The specific schedule will be adjusted after the participation has been determined.

 

Day 3 – July 26 (Wed), July 27 (Thu), July 28 (Fri), July 31 (Mon) or August 1 (Tue)

[2] Pattern design by CAD (practice)

[3] Photoresist coating by spin coater (practice)

[4] Drawing patterns by an electron-beam lithography equipment (practice)

 

Day 4 – July 27 (Thu), July 28 (Fri), July 31 (Mon), August 1 (Tue) or August 2 (Wed)

[5] Development of drawing pattern (practice)

[6] Dry etching of oxide film (practice)

[7] Observation of fabricated structures by SEM (practice)

[8] Preparation of report

 

■ Tuition:

Free of charge for the doctoral students and young researchers belonging to CUPAL Alliance institutions

Others: 250,000 yen (* Not including consumption tax)

 

■ Contact: Kyoto University Nanotechnology Hub

(kyodai-hub@saci.kyoto-u.ac.jp  Phone: +81-75-753-5231)